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納濾膜技術在半導體廢水處理中的應用
水處理 行業
2023-12-11 上傳時間
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半導體晶圓加工是指制作硅半導體電路所用的硅晶片,其原始材料是硅,高純度的多晶硅溶解后摻入硅晶體晶種,然后慢慢拉出,形成圓柱形的單晶硅,硅晶棒在經過研磨,拋光,切片后,形成硅晶圓片,也就是晶圓

隨著半導體、光伏產業近年來迅速發展,行業高耗能、高污染的問題也日益凸顯,在生產中會產生大量的工業廢水,廢水中含有較高濃度的h2o2以及一定量的氨、氮、氟等,以及酸堿廢水。需要對半導體廢水進行處理,直到達標后才能進行排放。

膜過程作為一門新型的高效分離、濃縮、提純及凈化技術,具有操作簡單、占地面積小,處理過程中無相變及不會產生新的污染物質、分離效果好等優點,近年來在水處理領域中得到廣泛應用。

納濾(NF)是介于超濾與反滲透之間的一種膜分離技術,其截留分子量在100-1000的范圍內。納濾膜屬于電荷膜,一般帶羧酸基和磺酸基,分離機理為篩分和溶解擴散并存,同時又具有電荷排斥效應,可以有效地去除二價和多價離子、去除分子量大于200的各類物質,可部分去除單價離子和分子量低于200的物質。在半導體廢水深度處理應用中,納濾膜具有運行壓力低,膜通量高,裝置運行成本低的優勢還可與其它污水處理工藝相結合,進一步降低成本,提高處理效果。其技術特點如下:

1、納濾膜組件對無機鹽有一定的截留率,因為它的表面分離層是由聚電解質所構成,對離子有靜電相互作用。

2、超低壓大通量,即在超低壓下(0.1Mpa)仍能工作,并有較大的通量。

納濾膜的分離性能明顯優于超濾和微濾,與反滲透膜相比具有部分去除單價離子、過程滲透壓低、操作壓力低、省能等優點,在半導體廢水處理領域中得到了廣泛的應用。



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